Нанесение тонких пленок (от десятков нанометров до единиц микрометров) позволяет изменять оптические свойства поверхности и успешно используется для создания просветляющих и светоотражающих покрытий. Для нанесения покрытий в нашей лаборатории используется напылительная установка, работающая по методу ионно-лучевого распыления.
Преимущества нанесения пленок ионно-лучевым распылением:
-высокая стехиометрия покрытия;
-минимальное содержание загрязнений в покрытии;
-получение ровных поверхностей с малой шероховатостью (не более 3 нм);
-процесс напыления происходит при низких давлениях порядка 5·10-4;
-возможность проведения реактивных и не реактивных процессов в одной камере без перенастройки (например, из мишени Si можно получать покрытия Si, SiO2);
-возможность нанесения покрытий на термочувствительные подложки (процесс можно проводить без нагрева и с нагревом подложек вплоть до 300°С);
-высокая воспроизводимость процесса;
Главным недостатком данного метода является малая скорость процесса напыления (десятки Å/c). Из-за этого максимальная толщина покрытия ограничена единицами микрометров.
На данный момент у ООО «Лаборатории оптических кристаллов» есть ряд покрытий с отработанной технологией распыления сульфидов, фторидов, оксидов, теллуридов и некоторых других менее популярных материалов, которые могут быть использованы в широком диапазоне длин волн от УФ до среднего ИК.