Нанесение тонких пленок (от десятков нанометров до единиц микрометров) позволяет изменять оптические свойства поверхности и успешно используется для создания просветляющих и светоотражающих покрытий. Для нанесения покрытий в нашей лаборатории используется напылительная установка, работающая по методу ионно-лучевого распыления.

 

 

 

Преимущества нанесения пленок ионно-лучевым распылением:

-высокая стехиометрия покрытия;

-минимальное содержание загрязнений в покрытии;

-получение ровных поверхностей с малой шероховатостью (не более 3 нм);

-процесс напыления происходит при низких давлениях порядка 5·10-4;

-возможность проведения реактивных и не реактивных процессов в одной камере без перенастройки (например, из мишени Si можно получать покрытия Si, SiO2);

-возможность нанесения покрытий на термочувствительные подложки (процесс можно проводить без нагрева и с нагревом подложек вплоть до 300°С);

-высокая воспроизводимость процесса;

Главным недостатком данного метода является малая скорость процесса напыления (десятки Å/c). Из-за этого максимальная толщина покрытия ограничена единицами микрометров.

На данный момент у ООО «Лаборатории оптических кристаллов» есть ряд покрытий с отработанной технологией распыления сульфидов, фторидов, оксидов, теллуридов и некоторых других менее популярных материалов, которые могут быть использованы в широком диапазоне длин волн от УФ до среднего ИК.